用語集

BEACH のドキュメントで使う用語と、対応する英語、設定キー・出力名の対応です。 本文ではここの日本語を使い、設定や出力を探すときは識別子の列を使います。 設定キーは新形式（7 グループ）の名前です。

計算の進め方

用語	英語	識別子	意味
バッチ	batch	run.batch_count	場を固定して粒子を追跡し、電荷差分を表面へ確定反映するまでの 1 周期
バッチ幅	batch duration	run.batch.duration_s	1 バッチが表す物理時間。時間に比例する粒子源の注入量と、表面電荷を更新する間隔を決める
確定反映	commit	—	バッチ末尾に、集めた電荷差分を表面電荷へ一度だけ加えること
時間刻み	time step	particles.tracking.dt_s	粒子軌道を 1 回進める時間
適応進行	adaptive progression	run.batch.adaptive.*	面内変動成分の電位変化を上限内に抑えるよう、バッチを短い幅で再試行すること
再開	restart	run.restart	checkpoint の状態から計算を続けること

粒子

用語	英語	識別子	意味
粒子種	species	particles.species[].species_key	電荷・質量・分布・粒子源を共有する粒子の集まり
マクロ粒子	macro-particle	—	実粒子の集まりを代表する計算粒子
重み	weight	sampling.weight	1 マクロ粒子が代表する実粒子数
粒子源	particle source	source.mode	粒子を生成する方法（volume_seed、photo_raycast）
境界流入	boundary inflow	particles.species[].inflow	box 外の外部プラズマから、非周期の box 面を通して粒子を入れること
外部プラズマ（reservoir）	reservoir	particles.reservoir	box 外にあると仮定する、分布が既知のプラズマ
流入の写像	inflow mapping	particles.reservoir.inflow_model	外部プラズマの分布を、流入面での分布に置き換える方法（source_vdf、infinity_barrier）
吸収	absorption	absorbed_*	粒子が表面の三角形に当たり、電荷を残して消えること
脱出	escape	escaped_*	粒子が開放面（open）から出て、戻らないこと
反射	reflection	reflect、redistributed_reflect	box 面で法線速度を反転して追跡を続けること
帰還	return	—	表面から放出した粒子が、再び表面に吸収されること
未解決粒子	unresolved particle	discarded_unresolved_*	1 粒子あたりの step 上限までに吸収も脱出もしなかった粒子。バッチ末尾に破棄する
光電子	photoelectron（PE）	source.mode = "photo_raycast"	照射された表面から放出する電子

表面と電荷

用語	英語	識別子	意味
表面モデル	surface model	surface_model	吸収した電荷を表面でどう保持するか（insulator、conductor）
反作用電荷	reaction charge	source.deposit_opposite_charge_on_emit	粒子を放出した要素に残す、放出粒子と逆符号の電荷
電荷の閉じ方	charge closure	charging.closure	粒子種の電荷を、追跡結果に加えて何に合わせるか（neutral_return、fixed_current）
閉じた光電子	closed photoelectrons	charging.closure = "neutral_return"	光電子を上端で反射し、正味の光電子電流を 0 に合わせる構成
目標電流・目標電荷	target current / charge	charging.target_*_current_a、fixed_*_target_charge_C	固定電流で合わせる電流と、それにバッチ幅を掛けた電荷
倍率	weight scale	*_weight_scale、target_over_tracked	目標電荷と追跡で得た電荷の比。追跡した分布をこの倍率で拡大・縮小して表面へ配る
電荷台帳	charge ledger	charge_ledger.csv	粒子種ごとの注入・吸収・脱出・補正の電荷と個数の集計

外部シース

用語	英語	識別子	意味
外部シースとの接続	sheath closure	sheath.closure = "zero_current"	box 外に平面定常シースを仮定し、その零電流根から上端の電流・障壁・電位基準を与えること
零電流根	zero-current root	sheath.zhao.branch	表面への正味電流が 0 になる外部シースの定常解（Zhao Type A / B / C）
壁電位	wall potential（$\phi_0$）	matching_plane_history.csv の phi_H_V	外部シースから見た表面（BEACH の上端面）の電位。上流のプラズマを 0 V とする
電位極小	potential minimum（$\phi_m$）	—	Type A で、上流と壁の間にできる電位の最小値。電子と光電子の障壁になる
上流電子密度	upstream electron density（$n_{e,\infty}$）	—	外部シースの根が与える、無限遠の電子 Maxwell 分布の密度
外部根の更新	outflow refresh	sheath.coupling.outflow_refresh_batches	上端面を出る光電子の観測値から、外部シースの根を定期的に解き直すこと
上端面	top face（z-high）	z_high	box の上側の面。外部シースと接続する面
電位障壁	potential barrier	infinity_barrier, zhao_barrier_v1	reservoir 流入、または外部シースでの帰還・脱出を分ける位置エネルギーのしきい値
上流の帯	upstream band	surface_current_model_upstream_negative_band_V	電子に drift を与えた A / C の根で、上流電位に接して $E^2<0$ になる電位の幅
場の下限	field floor	sheath.zhao.upstream_field_floor_v_m	外部シースが上流プラズマへ引き渡す場のレベル。帯の内側の場の不足がこれ以下の根を受理する
場の不足	field deficit	surface_current_model_upstream_field_deficit_V_m	帯の内側で欠けている場 $\sqrt{-\min E^2}$。上流プラズマが外から供給する電場

周期場

用語	英語	識別子	意味
場ソルバ	field solver	fields.solver.method	表面電荷から場を計算する方法（direct、treecode、fmm）
場境界	field boundary	fields.boundary	場をどの空間で解くか（free、periodic2）
有限画像	finite images	fields.periodic.image_layers	周期セルの周囲に陽に並べる複製の層
面内変動成分	nonzero mode（$k\ne0$）	fields.periodic.backend	x/y 方向に変化する場の成分
面平均成分	zero mode（$k=0$）	fields.periodic.lower_boundary_model	x/y 方向に平均した場の成分。各高さより下の総電荷と下側境界条件で決まる
遠方補正	far correction	fields.periodic.backend = "cached_kneq0"	有限画像の外側の周期複製が作る面内変動成分を、事前に作った演算子で加えること

出力

用語	英語	識別子	意味
実行記録	run summary	summary.txt	実行統計と、解決した設定を key=value で書いたファイル
履歴	history	*_history.csv	バッチごとに書く時系列